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14nm良率達業(yè)界水準、*工藝已有10多款芯片流片

2022年08月08日 19:08:12      來源:快科技      閱讀量:91評論

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導讀:日前,中芯聯(lián)席CEO梁孟松博士在投資者調研會議上透漏了公司新進展,特別是在*工藝上的新情況。

  日前,中芯聯(lián)席CEO梁孟松博士在投資者調研會議上透漏了公司的新進展,特別是在*工藝上的新情況。
 
  梁博士表示,14 納米在去年第四季度進入量產,良率已達業(yè)界量產水準。隨著我們展現(xiàn)出的研發(fā)執(zhí)行能力,客戶對中芯技術的信心也在逐步增強,我們將持續(xù)提升產品和服務競爭力,引入更多的海內外客戶。
 
  我們第二代*工藝技術n+1正在穩(wěn)步地推進中,n+1正在做客戶產品驗證,目前進入小量試產,產品應用主要為高性能運算。
 
  相對于*代*技術,第二代技術平臺以低成本客制化為導向,第二代相較于14納米,性能提高20%,功率減少57%,邏輯面積減少63%,集成系統(tǒng)面積減少55%。
 
  總體來說,我們正在與國內和海外客戶合作10多個*工藝流片項目,包含14納米及更*工藝技術。
 
  梁博士表示,我們相信,隨著5G、物聯(lián)網、教育和工作場所的資訊數位化的興起,集成電路行業(yè)將涌現(xiàn)巨大的市場機遇。
 
  為了推動公司的創(chuàng)新與發(fā)展,我們將持續(xù)推進研發(fā)工作,來服務并滿足客戶需求和不斷增長的數字消費市場,新專案、新節(jié)點的開展需要時間,我們將一步一腳印地穩(wěn)步開發(fā)*工藝技術。
 
  原標題:中芯:14nm良率達業(yè)界水準、*工藝已有10多款芯片流片
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