旋涂技術(shù)常用的設(shè)備是旋涂機(jī)，旋涂機(jī)又叫甩膠機(jī)、勻膠臺(tái)、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)。一般來說，它們的原理都是一樣的，就是將各種膠水滴在高速旋轉(zhuǎn)的基板上，通過離心力使滴在基板上的膠水均勻地涂在基板上。厚度取決于不同膠水與基板之間的粘度系數(shù)，也與轉(zhuǎn)速和時(shí)間有關(guān)。

　　旋涂機(jī)旋涂過程根據(jù)基片轉(zhuǎn)速和膠的變化可分為幾個(gè)階段：滴膠、加速旋涂膠、勻旋膠和切邊，其中第三階段勻旋階段是控制涂膠厚度和均勻性的重要階段。

　　滴膠：旋涂機(jī)在滴膠之前，需要對(duì)膠水進(jìn)行亞微米級(jí)的過濾，否則薄膜可能會(huì)形成彗星圖、星形圖和氣泡。滴膠階段是將晈體溶劑沉積在基板中心位置的過程，可以手動(dòng)滴，也可以用自動(dòng)滴膠器滴?？偟膩碚f，自動(dòng)滴膠法是一種自動(dòng)化、機(jī)械化的操作，薄膜的厚度、均勻性、重復(fù)性都很好，還可以減少揮發(fā)性有毒氣體的接觸。

　　擴(kuò)散-加速旋轉(zhuǎn)：某些晈體中的溶劑非常易揮發(fā)，如果不在短時(shí)間內(nèi)穩(wěn)定快速地將基底加速到設(shè)定的速度，晈體中的溶劑會(huì)迅速蒸發(fā)，導(dǎo)致晈體的粘度迅速增加，從而影響涂層厚度的控制。在加速階段，襯底以一定的加速度旋轉(zhuǎn)，晈體溶劑開始向襯底邊緣擴(kuò)散，部分晈體會(huì)被甩出襯底。加速初期，晈體沉積在基底表面一定高度，晈體底部貼在基底表面，一起旋轉(zhuǎn)。但由于慣性，上層晈體不能和基板同速旋轉(zhuǎn)，所以晈體形成螺旋狀。隨著晈體在離心力的作用下不斷向基底邊緣擴(kuò)散，螺旋逐漸消失，晈體變薄并覆蓋基底表面。涂覆基材的旋轉(zhuǎn)速度同步。在襯底的加速旋轉(zhuǎn)階段，高精度地控制旋轉(zhuǎn)速度和精確地設(shè)置旋轉(zhuǎn)時(shí)間是非常重要的。實(shí)際上，無論背膠具有什么樣的性能，旋涂機(jī)都需要一個(gè)高精度、穩(wěn)定的電機(jī)轉(zhuǎn)速控制系統(tǒng)，才能做出厚度均勻可控的薄膜。

　　邊緣涂布：在旋涂機(jī)勻速旋轉(zhuǎn)階段，晈體的粘度和揮發(fā)是影響薄膜厚度不均勻的重要因素。當(dāng)溶劑加速到設(shè)定的速度時(shí)，就形成了一定厚度的涂層。在隨后的勻速旋轉(zhuǎn)過程中，由于晈體的粘滯力仍然小于離心力，涂層繼續(xù)向基板邊緣擴(kuò)散，基板邊緣的晈體不斷被甩出，涂層厚度逐漸減小。同時(shí)，由于涂層已經(jīng)覆蓋了整個(gè)基材表面，由于基材上方快速流動(dòng)的空氣的影響，溶劑的揮發(fā)速度加快，導(dǎo)致晈體的粘度增加，形成不易流動(dòng)的晈體。此時(shí)晈體涂層各個(gè)方向的力平衡，涂層厚度達(dá)到終端狀態(tài)。在鍍膜的邊緣，由于晈體的表面張力，薄膜邊緣的晈體很難被甩離基板，會(huì)形成一層厚度不均勻的薄層，甚至?xí)U(kuò)展到基板的背面，所以需要對(duì)基板邊緣進(jìn)行修整。