刻蝕機(jī)可以輕松控制工藝參數(shù)，工藝監(jiān)控和數(shù)據(jù)采集軟件可以實(shí)現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。適用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電器件、電子器件、MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。可以看出，加工前的硅片表面殘留有大量的光刻膠。使用表面等離子刻蝕機(jī)去除光刻膠后，將表面的光刻膠全部去除，效果非常好。

　　光刻機(jī)可廣泛應(yīng)用于微納流體晶圓加工、微納光學(xué)、微納光柵、NMEMS器件等微納結(jié)構(gòu)器件的制備?？涛g機(jī)是狹義的光刻機(jī)。為什么金屬刻蝕機(jī)要配備脫膠腔?

    先用光刻法對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光，然后再用另一種方法刻蝕掉光刻膠。

    隨著微細(xì)加工技術(shù)的發(fā)展，蝕刻已成為微細(xì)加工的總稱(chēng)，廣義上是通過(guò)溶液、反應(yīng)離子或其他機(jī)械方法對(duì)材料進(jìn)行剝離和去除的總稱(chēng)。

　　等離子等離子刻蝕機(jī)是干式等離子刻蝕機(jī)的改進(jìn)型。其表面改性劑廣泛用于表面清潔、表面(無(wú)菌)、表面(活化)和表面能蝕刻等表面工程應(yīng)用。 , 表面化學(xué)改性、表面化學(xué)改性和表面處理等。通過(guò)活化、接枝和表面涂層對(duì)聚合物和生物材料進(jìn)行表面蝕刻和表面活化。等離子刻蝕機(jī)的重整器對(duì)材料的處理時(shí)間短。為什么金屬刻蝕機(jī)要配備脫膠室不會(huì)造成化學(xué)污染，不會(huì)破壞材料的整體體積結(jié)構(gòu)，只會(huì)改變材料的表面性能。

　　表面改性：紙張粘合、塑料粘合、金屬焊接、電鍍前表面處理;表面活化：生物材料表面改性、印刷涂層或粘合前的表面處理(纖維表面處理等);表面雕刻蝕刻：硅微加工、表面玻璃等太陽(yáng)能場(chǎng)蝕刻處理、表面蝕刻處理;表面接枝：在材料表面形成特定基團(tuán)，固定表面活化;表面沉積：疏水或親水等離子聚合沉積層;

　　與未經(jīng)處理的單板相比，水接觸角降低47%，表面自由能提高59%，表面潤(rùn)濕性大大提高。從39%到43%的O/C比，大量含氧官能團(tuán)和過(guò)氧化物活躍生成，表面活性和極性提高，形成明顯的物理刻蝕現(xiàn)象，表面粗糙。 0.80% 增加。與同等速率處理的塑料薄膜未處理表面相比，水接觸角降低37%，表面自由能提高74%，表面0元素含量提高10.7倍，O/ C。比例顯著提高。增長(zhǎng)了13.1倍。