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關(guān)于光刻機(jī)的基本使用介紹

2025年05月11日 08:50:34      來源：江蘇士磐半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 >> 進(jìn)入該公司展臺      閱讀量：7

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　　光刻機(jī)（Mask Aligner）又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光體系，光刻體系等，是制造芯片的核心裝備。它采用相似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精密圖形經(jīng)過光線的曝光印制到硅片上。




　　使用模版去除晶圓外表的保護(hù)膜。將晶圓浸泡在墮落劑中，失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后構(gòu)成電路。用純水洗凈殘留在晶圓外表的雜質(zhì)。其間曝光機(jī)就是使用紫外線經(jīng)過模版去除晶圓外表的保護(hù)膜的設(shè)備。


　　一片晶圓能夠制作數(shù)十個集成電路，依據(jù)模版曝光機(jī)分為兩種：模版和晶圓大小相同，模版不動。模版和集成電路大小相同，模版隨曝光機(jī)聚集部分移動。其間模版隨曝光機(jī)移動的方法。


　　模版相對曝光機(jī)中心位置不變，一直使用聚集鏡頭中心部分能得到更高的精度。曝光機(jī)是出產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，世界上只要少數(shù)廠家掌握。因而曝光機(jī)價格昂貴，通常在 3 千萬至 5 億美元。
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