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一起了解一下刻蝕機(jī)的使用特點(diǎn)

2025年05月11日 08:51:45      來(lái)源：江蘇士磐半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 >> 進(jìn)入該公司展臺(tái)      閱讀量：7

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　　等離子刻蝕機(jī)，又名等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子外表處理儀、等離子清洗體系等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中常見的一種方式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體構(gòu)成等離子體。



　　由此發(fā)生的電離氣體和開釋高能電子組成的氣體，從而構(gòu)成了等離子或離子，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加快時(shí)，會(huì)開釋滿足的力氣與外表驅(qū)趕力緊緊粘合資料或蝕刻外表。某種程度來(lái)講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的狀況。


　　進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反響室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽暇的反響室。氣體被導(dǎo)入并與等離子體進(jìn)行交流。等離子體在工件外表發(fā)生反響，反響的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實(shí)際上便是一種反響性等離子工藝。


　　近期的開展是在反響室的內(nèi)部安裝成擱架方式，這種規(guī)劃的是富有彈性的，用戶能夠移去架子來(lái)裝備合適的等離子體的蝕刻辦法：反響性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（direction plasma）。
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