等離子去膠機(jī)停止去膠操作非常的簡(jiǎn)單，并且效率高，去膠后的外表潔凈光亮、沒(méi)有任何的劃痕、本錢(qián)低、環(huán)保。電介質(zhì)等離子體去膠機(jī)在停止刻蝕時(shí)，普通會(huì)被應(yīng)用在電容耦合等離子體平行板反響器上。


　　在平行板反響器中，反響離子刻蝕腔體所采用的是陰極面積小，陽(yáng)極面積大的不對(duì)稱設(shè)計(jì)，而需求被刻蝕的物件則是被放置到面積較小的電極之上。在停止刻蝕操作時(shí)，其射頻電源所產(chǎn)生的熱運(yùn)動(dòng)會(huì)使質(zhì)量小、運(yùn)動(dòng)速度快的帶負(fù)電自在電子很快抵達(dá)陰極。


　　而正離子則是由于質(zhì)量大、速度慢而很難在同一時(shí)辰到達(dá)陰極，從而就會(huì)在陰極左近構(gòu)成帶負(fù)電的鞘層，正離子在這個(gè)鞘層的加速之下，就會(huì)垂直的轟擊在硅片的外表，從而使得外表的化學(xué)反響加快，并且會(huì)使得反響生成物脫離，因而其刻蝕速度極快，離子的轟擊也會(huì)使各向異性刻蝕得以完成。


　　等離子去膠操作辦法：將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向，推入真空室兩電極間，抽真空到1.3Pa,通入恰當(dāng)氧氣，堅(jiān)持真空室壓力在1.3-13Pa,加高頻功率，在電極間發(fā)作淡紫色輝光放電，經(jīng)過(guò)調(diào)理功率、流量等技術(shù)參數(shù)，可得不一樣去膠速率，當(dāng)膠膜去凈時(shí)，輝光不見(jiàn)。