光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用（或?qū)﹄娮幽芰棵舾校┑母叻肿泳酆衔镔Y料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠應(yīng)用范圍：普遍應(yīng)用于集成電路，封裝，微機(jī)電系統(tǒng)，光電子器件光子器件，平板顯現(xiàn)器，太陽(yáng)能光伏等范疇。


　　主要技術(shù)參數(shù)靈活度是權(quán)衡曝光速度的指標(biāo)。靈活度越高，所需的曝光劑量越小。單位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2.分辨率（resolution）區(qū)別硅片外表相鄰圖形特征的才能。普通用關(guān)鍵尺寸來(lái)權(quán)衡分辨率。構(gòu)成的關(guān)鍵尺寸越小，分辨率越好。


　　分辨率是一個(gè)綜合指標(biāo)，影響該指標(biāo)的要素通常有如下3個(gè)方面：曝光系統(tǒng)的分辨率。比照度、膠厚、相對(duì)分子質(zhì)量等。普通薄膠容易得到高分辨率圖形。前烘、曝光、顯影、后烘等工藝都會(huì)影響分辨率。


　　比照度指從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過(guò)渡的陡度。比照度越好，越容易構(gòu)成側(cè)壁陡直的圖形和較高的寬高比。權(quán)衡光刻膠活動(dòng)特性的參數(shù)。黏度通常能夠運(yùn)用光刻膠中聚合物的固體含量來(lái)控制。同一種光刻膠依據(jù)濃度不同能夠有不同的黏度，而不同的黏度決議了該膠的不同的涂膠厚度。